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重点发展硅片、碳化硅等半导体衬底材料和超净高纯电子特气

来源: 最后更新:2025-01-14 09:44:44 作者: 浏览:97次

近日,珠海市工业和信息化局公开征求 《珠海市电子化学品产业发展三年行动方案(2025—2027年)(征求意见稿)》 意见

 

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节选内容

致力于发展我国电子化学品“卡脖子”技术以及进口替代产品,支持引育一批掌握新工艺、新技术的团队或中小型科技企业,推动产业链条向高附加值领域攀升。

 

(一)半导体集成电路及分立器件用电子化学品

1.基材

重点发展8英寸、12英寸硅片,碳化硅、氮化镓、磷化铟等新一代化合物半导体衬底材料及外延片;前瞻布局氧化镓、锑化镓、锑化铟等第四代半导体材料。

 

2.制程化学品及材料

抛光材料。依托现有化学机械抛光(CMP)浆料及抛光垫重点企业,重点发展氧化铝、氧化铈、氧化硅、氧化钨、氮化硅、氮化铝等高纯研磨颗粒,硝酸铈、硝酸铝、硝酸镍等高纯抛光剂,以及软质(聚氨酯垫、细毛毡垫、绒毛布垫)和硬质(纤维织物垫、聚乙烯垫)抛光垫等。

 

光掩膜版。重点发展匀胶铬版光掩模版,KrF、ArF移项光掩模版,前瞻布局深紫外光(DUV)掩膜版。

 

超净高纯电子特气。重点发展氮、氧、氩、氢、氦等背景气;四甲基环四硅氧烷(TMCTS)、正硅酸乙酯、乙硅烷、丙硅烷、二乙基硅烷(DES)等硅烷气;硼烷、锗烷、磷烷、硒烷、甲烷、乙烷、丙烷、丙烯、CO、CO2等超净高纯电子特气。

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